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濺射鈦靶材在IT產(chǎn)業(yè)與玻璃鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用
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濺射鈦靶材在IT產(chǎn)業(yè)與玻璃鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間 :2021-06-21 23:07:03 瀏覽次數(shù) :

濺射鈦靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。

1、信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)

隨著IT產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展,世界對(duì)記錄介質(zhì)的需求量越來(lái)越大,記錄介質(zhì)用靶材研究與生產(chǎn)成為一大熱點(diǎn)。在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,使用濺射靶材制備的相關(guān)薄膜產(chǎn)品有硬盤(pán)、磁頭、光盤(pán)等。制造這些數(shù)據(jù)存儲(chǔ)產(chǎn)品,需要使用具有特殊結(jié)晶性與特殊成分的高品質(zhì)靶材,常用的有鈷、鉻、碳、鎳、鐵、貴金屬、稀有金屬、介質(zhì)材料等。

2、集成電路產(chǎn)業(yè)

集成電路用鈦靶材在全球靶材市場(chǎng)占較大份額,其濺射產(chǎn)品主要包括電極互連線膜、阻擋層薄膜、接觸薄膜、光盤(pán)掩膜、電容器電極膜、電阻薄膜等。其中薄膜電阻器是薄膜混合集成電路中用量最多的元件,而電阻薄膜用靶材中Ni-Cr合金的用量很大。

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3、平面顯示器產(chǎn)業(yè)

平面顯示器包括:(1) 液晶顯示(LCD) ; (2) 等離子體顯示器(PDP) ; (3) 場(chǎng)致發(fā)光顯示器(E-L) ; (4)場(chǎng)發(fā)射顯示器(FED) 。目前, 在平面顯示器市場(chǎng)中以液晶顯示為主,廣泛應(yīng)用于筆記本電腦顯示器、臺(tái)式電腦監(jiān)視器到高清晰電視。目前,平面顯示器的薄膜多采用濺射成形。濺射用靶材主要有In2O3、SnO2、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。

4、濺射靶材在其他領(lǐng)域中的應(yīng)用

1)大面積玻璃鍍膜

磁控濺射是目前制備幕墻玻璃的最好的方法,但射頻電源,濺射靶的材料和制作價(jià)格都十分昂貴,磁控濺射的成本是比較高的。

玻璃鍍膜采用的靶材:

A)純金屬。如金,銀,鉭,鈦,銅,鉻,鎳,錫,硅。

B)金屬合金。如鋼錫、鈷鉻,鎳鉻,不銹鋼,特殊

C)電導(dǎo)和絕緣氧化物。如ITO, SiO2

鍍膜過(guò)程:將惰性氣體注入真空室,在電場(chǎng)中被電離后產(chǎn)生帶正電荷的離子和自由電子。正離子被吸收至裝在負(fù)電位,陰極頂面的靶上。氣體、離子將靶材表面上的原子碰出來(lái),使這些原子凝聚在玻璃基片上。采用磁場(chǎng)捕集自由電子可得到高的濺射率,被捕集的自由電子周而復(fù)始地產(chǎn)生高離子密度,從而得到較高的膜層沉積速率。磁控增強(qiáng)陰極的濺射率較常規(guī)二極濺射高5至10倍,內(nèi)裝有水冷卻回路保證均勻地降低靶材的溫度。純金屬和合金在惰性氣體的氣氛中濺射;純金屬靶可在反應(yīng)性氣體的氣氛中濺射。

2)汽車后視鏡鍍膜

汽車后視鏡主要用靶材:Cr、A 1、SnO, (反應(yīng)性) 、TiO2, 通常的后視鏡是采用蒸發(fā)鍍鋁工藝, 由于鋁膜反射率較高,約87%,吸收很小,因此反射光很耀眼。而采用磁控濺射法鍍制特殊膜系,反射率比鋁膜稍低且在可見(jiàn)光范圍內(nèi)對(duì)紅色光有一定的吸收,給予鏡子一種誘人的“霧藍(lán)色”,其反射光顯得非常柔和清晰。

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